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4PVD真空镀
物相沉积（Physical vapor deposition，PVD）：是一种工业制造上的工艺，是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术。
PVD原理示意图
工艺流程:
PVD前清洗→进炉抽真空→洗靶及离子清洗→镀膜→镀膜结束，冷却出炉→后处理（抛光、AFP）
技术特点:
PVD（Physical Vapor Deposition物相沉积) 可以在金属表面镀覆高硬镀、高耐磨性的金属陶瓷装饰镀层
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镀 (Electroplating)
电镀：是利用电解作用使金属的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止腐蚀，提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用的一种技术。
工艺流程：
前处理→无氰碱铜→无氰白铜锡→镀铬
技术特点：
优点：
1、镀层光泽度高，高品质金属外观；
2、基材为SUS、Al、Zn、Mg等；成本相对PVD低。
缺点：
环境保护较差，环境污染风险较大。

技术特点:
1、实现不同的反光或亚光。
2、能清理工件表面的微小毛刺，并使工件表面更加平整，消除了毛刺的危害，提高了工件的档次。
、清楚前处理时遗留的残污，提高工件的光洁度，能使工件露出均匀一致的金属本色，使工件外表更美观，好看。

技术特点:
优点：
1、颜色丰富；
2、无金属质感，可配合喷砂、抛光、拉丝等；
3、液体环境中加工，可实现复杂结构的表面处理；
4、工艺成熟、可量产。
缺点：
掩盖缺陷能力一般，压铸件做电泳对前处理要求较高。
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微弧氧化 (MAO)
微弧氧化：在电解质溶液中（一般是弱碱性溶液）施加高电压生成陶瓷化表面膜层的过程，该过程是物理放电与电化学氧化协同作用的结果。
工艺流程：前处理→ 热水洗→ MAO → 烘干
技术特点：
优点：
1、陶瓷质感，外观暗哑，没有高光产品，手感细腻，防指纹；
2、基材广泛：Al Ti Zn Zr Mg Nb 及其 合金等；
3、前处理简单，产品耐腐蚀性、耐候性，散热性能佳。
缺点：
目前颜色受限制，只有黑色、灰色等较成熟，鲜艳颜色目前难以实现；成本主要受高耗电影响，是表面处理中成本的其中之一。

粉末喷涂 (Powder coating)
粉末喷涂：是用喷粉设备（静电喷塑机）把粉末涂料喷涂到工件的表面，在静电作用下，粉末会均匀的吸附于工件表面，形成粉状的涂层；粉状涂层经过高温烘烤流平固化，变成效果各异（粉末涂料的不同种类效果）的终涂层。
工艺流程：
上件→静电除尘→喷涂→低温流平→烘烤
技术特点：
优点：
1、颜色丰富，高光、哑光可选；
2、成本较低，适用于建筑家具产品和散热片的外壳等；
3、利用率高，**利用，环保；
4、遮蔽缺陷能力强；5、可仿制木纹效果。